由于人工衍生的各種問題,UVW對位平臺應運而生,如對產量的要求很高、生產速度大幅提高、精度人員無法達到等。它是未來這個高度自動化行業不可或缺的產品。
目前,UVW對位平臺的應用主要集中在半導體行業的晶圓切割、封裝檢測、PCB制造行業的曝光機、絲網印刷機、層壓機、壓力機、PCB板切割、手機制造、lcd/led面板制造等高速高精度行業,太陽能電池板銀絲印刷。這些行業只是校準平臺用戶的先驅,未來隨著自動化的加速,更多的行業將使用這種計數器平臺,稱為“自動設備CPU”。UVW對位平臺是一個具有XY方向加θ微轉向角度的移動單元,以實現兩個工作對象的組合。
方法如下:
1、XYθ對中平臺:疊加一組X、Y模塊,上方放置旋轉機構形成XYθ對中平臺精度一般較低。
2、UVW對位平臺:將兩組X電模塊和一組Y電模塊疊加,形成一個比前者精度更高的UVW對位平臺。
3、xxy對中平臺:是指由兩個X軸電氣模塊、一個Y軸模具電氣組和一個自由軸模塊組成的xxy對中平臺。它可以利用安裝在三軸模塊中的轉臺產生θ微轉角,精度高。
4、xxyy對中平臺:顧名思義,是由兩個X軸電氣模塊和兩個Y軸電氣模塊組成的xxyy對中平臺。機身的精度、對準速度和剛度都比以前的產品高,制造難度也更大。
自動UVW對位平臺較早起源于德國。所采用的方法是用銷銷通過磁力開關移動框架,使上面的固定玻璃與下面的框架結合。在日本,它被改為UVW平臺,以三向UVW電力命名。然后,工程師將其作為藍圖,將其縮小,并大大降低其高度,以形成現在常見的XXY校準平臺。磁力開關也已演變為一個由導軌甚至交叉導軌組裝的單一模塊,以及由三軸電機甚至四軸電機驅動的高精度UVW對位平臺。
UVW平臺對準系統識別定位參考點,并使用亞像素圖像對準算法計算XYθ。它可以自動控制移動平臺反向運動的相應運動量,校正測量對象的位置,實現精確的自動定位。對準精度可達微米級。平臺攝像機采用一鍵校準,可識別任何形狀的目標。該主機體積小、攜帶方便,可輕松集成到各種工業設備中。適用于各種高精度對中機構和設備的裝配和對中。