UVW對位平臺是一種三軸并聯機構。XY兩軸線性運動和z軸旋轉的θ。借助卓力漢光tmc xyr運動控制器的嵌入式運動算法和軟件，可以實現單軸直線運動、兩軸直線插補、兩軸圓弧插補和任意圓心旋轉等復雜運動。UVW對位平臺是高精度視覺對準系統的機械執行部分。主要用于曝光機、鍵合機、掩模打印機、晶圓對準、零件安裝、PCB鉆床、LCD照明特性檢測、切割機、貼片機(LCD/fpc)、屏幕打印機等場合。

　　UVW對位平臺總體結構：

　　UVW對位平臺通常由四個模塊組成：上表、下底和中間。從模塊分布的結構上，可以分為對稱結構和非對稱結構，而對稱結構又可以分為交叉對稱結構和四邊形對稱結構。

　　不對稱結構通常用于超薄或定制需求，通常不能在中間設計通孔，因此在某些特定情況下使用。對稱結構在運動算法上更為通用，并且可以在對準平臺的中心設計通孔，在一定程度上可以滿足透射和反射的對準要求，因此得到了廣泛的應用。對稱結構中的四邊形分布具有較強的剛性和可擴展性，所以卓力漢光學對準平臺采用的是更多的四邊形對稱結構。

　　校準平臺模塊：

　　UVW對位平臺通常由四個運動模塊組成，其中三個模塊配有驅動機構，另一個模塊為驅動(非驅動)模塊。由于定位平臺具有緊湊的結構，并且側驅動模塊在長度方向上節省空間，因此通常使用它。對準平臺模塊通常由x軸、Y軸和θZ軸組成。當這三個軸組合成對中平臺模塊時，通常會將其分為幾個結構：雖然對中平臺是按模塊搭建的，但由于在實際施工過程中對加工、裝配、檢驗、運動控制等要求較高，建議沒有經驗的用戶不要購買模塊并自行安裝。

　　顧名思義，對齊平臺用于對齊。任意兩個工件需要組裝在一起，可以使用對中平臺。然而，并非所有工件組件都需要對齊平臺，因為它們不需要如此高的精度。校準平臺的精度可達到1微米，用于芯片印刷。

　　目前，UVW對位平臺的應用主要集中在半導體行業的晶圓切割、封裝檢測、PCB制造行業的曝光機、絲網印刷機、層壓機、壓力機、PCB板切割、手機制造、lcd/led面板制造等高速高精度行業，太陽能電池板銀絲印刷。這些行業只是校準平臺用戶的先驅，未來隨著自動化的加速，更多的行業將使用這種計數器平臺，稱為“自動設備CPU”。